基于專利 Galaxy S5/Note4概念圖再曝光

【手機中國 新聞】早在去年8月我們曾看到過三星的一項設計專利，現(xiàn)在這項專利近期又被重新提交。最初我們認為這是Note 3的專利，然而當三星近期再次向美國專利商標局提出這項專利申請的時候，我們覺得這些專利草圖可能可以讓我們提前了解到三星Galaxy S5，甚至是Note 4的模樣。

設計師Ivo Maric將這項專利申請應用到設計當中，并根據(jù)三星在新年前夕獲得的這項專利繪制了三星Galaxy S5的概念設計圖，跟此前提交的專利草圖一樣，Maric設計的手機采用了曲面屏。另一位設計師Jermain Smit則采用了不同的策略將設計專利草圖呈現(xiàn)在三星Galaxy Note 4上，我們一起看看吧：

版權(quán)所有，未經(jīng)許可不得轉(zhuǎn)載